- Reaktion auf die Anforderungen des Halbleitermarktes, bei dem die Leitungsbreiten immer feiner werden -
Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKIO: 7912) hat erfolgreich ein Herstellungsverfahren für Fotomasken entwickelt, das in der Lage ist, den 3-Nanometer-Lithographieprozess (10-9 Meter) zu unterstützen, der die Extrem-Ultra-Violett-Lithografie (EUV) unterstützt, das modernste Verfahren für die Halbleiterfertigung.
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Fotomaske, die 3-nm-EUV-Lithografie unterstützt (Foto: Business Wire)
[Hintergrund]
DNP hat kontinuierlich auf die Anforderungen der Halbleiterhersteller in Bezug auf Leistung und Qualität reagiert. Im Jahr 2016 haben wir als weltweit erster Hersteller von Fotomasken das Multi-Beam Mask Writing Tool (MBMW) eingeführt. Im Jahr 2020 haben wir einen Herstellungsprozess für Fotomasken für 5-nm-EUV-Lithographieprozesse entwickelt und liefern Masken, die den Anforderungen des Halbleitermarktes entsprechen. Um den Anforderungen der weiteren Miniaturisierung gerecht zu werden, haben wir in dieser neuesten Entwicklung eine Fotomaske für die EUV-Lithographie entwickelt, die 3-nm-Prozesse unterstützen kann.
[Zusammenfassung]
- Das 2016 von DNP eingeführte MBMW ist in der Lage, mit ca. 260.000 Elektronenstrahlen zu bestrahlen und kann die Lithographiezeit auch bei komplexen Musterformen deutlich verkürzen. Bei dieser Gelegenheit haben wir den Herstellungsprozess verbessert, indem wir die Eigenschaften der Ausrüstung genutzt und gleichzeitig die Datenkorrekturtechnologie und die Verarbeitungsbedingungen optimiert haben, um der komplexen gekrümmten Musterstruktur der Fotomaske für die EUV-Lithographie gerecht zu werden.
- DNP hat ein neues MBMW installiert und plant, in der zweiten Hälfte des Jahres 2024 den Betrieb aufzunehmen. Wir werden auch unsere Unterstützung für die Halbleiterfertigung in fortgeschrittenen Bereichen wie Fotomasken für die EUV-Lithografie verstärken.
- DNP wird die gemeinsame Entwicklung von EUV-Fotomasken für EUV-Belichtungsgeräte der nächsten Generation mit dem Interuniversity Microelectronics Center (imec), einer hochmodernen internationalen Forschungsorganisation mit Hauptsitz in Belgien, fördern.
[Vorwärts]
DNP wird die neu entwickelte Fotomaske, die in der Lage ist, die 3-nm-EUV-Lithographie zu unterstützen, an Halbleiterhersteller auf der ganzen Welt liefern. Darüber hinaus werden wir auch die Entwicklung von Peripherietechnologien für die EUV-Lithografie unterstützen, mit dem Ziel, im Jahr 2030 einen Jahresumsatz von 10 Milliarden Yen zu erzielen.
Durch die gemeinsame Entwicklung mit Partnern wie imec wird DNP weiterhin fortschrittlichere Fotomasken entwickeln, die in der Lage sind, Prozesse zu unterstützen, die feiner als 3 nm und sogar über 2 nm hinausgehen.
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Über DNP
DNP wurde 1876 gegründet und hat sich zu einem führenden globalen Unternehmen entwickelt, das druckbasierte Lösungen und die Stärken seiner wachsenden Anzahl von Partnern nutzt, um neue Geschäftsmöglichkeiten zu entwickeln und gleichzeitig die Umwelt zu schützen und eine lebendigere Welt für alle zu schaffen. Wir nutzen unsere Kernkompetenzen in der Mikrofabrikation und Präzisionsbeschichtungstechnologie, um Produkte für die Märkte für Displays, elektronische Geräte und optische Folien anzubieten. Wir haben auch neue Produkte entwickelt, wie z. B. Vapor Chamber und Reflect Array, die Kommunikationslösungen der nächsten Generation für eine menschenfreundlichere Informationsgesellschaft bieten.
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