LIVERMORE, Kalifornien (IT-Times) - Ein US-Forschungsinstitut will mit Hilfe von Lasertechnologie die Extreme Ultra Violett (EUV)-Effizienz steigern und meldet nun einen Durchbruch in der Lithografie-Technologie. Das Lawrence Livermore National Laboratory (LLNL) in den USA entwickelt unter dem Projekt...Den vollständigen Artikel lesen ...
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